VHF를 이용한 PE-ALD 장치 및 방법
김형준, 유길상, 오일권, 이한보람
요약
본 발명은 VHF(Very High Frequency)를 이용하여 PE-ALD(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition)를 수행하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 원자층 증착 장치는, 공정이 수행되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버 내에서 상기 기판을 지지하는 기판 지지부; 상기 챔버에 가스를 공급하는 가스 공급부; 상기 챔버 내 가스를 배출시키는 배기부; 상기 챔버에 설치되어 상기챔버 내에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성부; 및 상기 플라즈마 생성부에 VHF(Very High Frequency) 대역의 신호를 인가하는 VHF 전원;을 포함할 수 있다.
